全球快资讯：国产新突破北方华创正式发布 CCP 介质刻蚀机，实现刻蚀工艺全覆盖

来源：中关村在线　2022-08-17 07:43:34

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由于美国的制裁，国产半导体领域在最近最近几年可谓是突飞猛进，在很多领域都取得了新突破。而就在今天，根据北方华创官方公众号的消息，在今天，北方华创正式发布 CCP 介质刻蚀机，与此同时，北方华创目前已经与 5 家客户完成验证并实现量产。而在此前北方华创就已经推出了 ICP 刻蚀机、金属刻蚀机等，今天发布的CCP 介质刻蚀机之后，北方华创正式实现刻蚀工艺全覆盖。

北方华创表示NMC508RIE介质刻蚀机的推出，完成了该领域国产设备工艺的最后一块拼图，实现了北方华创在 8 吋刻蚀设备上的整体解决方案，包括硅刻蚀、深硅刻蚀、金属刻蚀、化合物半导体刻蚀 (SiC, GaN, GaAs, InP, LiNbO_3,LiTaO₃等）等工艺设备。而我们也希望其他的国产半导体厂商也都能早日实现突破。

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