三星着手研发光刻胶材料并引入8英寸晶圆光刻完成时间尚待公布

来源：中关村在线　2021-06-24 08:41:33

据外媒消息，为摆脱日本企业的垄断和封锁，三星SDI为其研究中心的光刻胶开发引入了8英寸晶圆光刻和涂胶显影设备。

芯研所整理报道，在半导体生产领域，韩国三星绝对是巨头中的巨头，然而巨头有时候也受制于人，其中用于极紫外(EUV)光刻工艺的光刻胶材料，一直是这家巨头的“软肋”之一。曾经在2019年，被日本企业限制供货后，导致生产线停滞。

为了摆脱这一限制，据外媒消息，三星SDI正在为其研究中心的光刻胶开发，引入了8英寸晶圆光刻和涂胶显影设备，这也意味着三星终于开始朝着光刻胶材料进行攻克和研发了。

但三星SDI并未透露光刻胶开发计划的启动和完成时间。该公司仅表示，在完成光刻胶开发后，不仅将向三星电子提供新产品，还将向其他半导体公司及使用光刻胶的公司供货。三星SDI的一位高管表示，“我们一直在开发各种类型的光刻胶，包括 EUV光刻胶。”不过，光刻胶的商业化时间及具体细节还未敲定。

(作者：martin 责编：martin)

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