Intel启动创新机器推进IDM 2.0 并将全面使用EUV光刻技术

来源：驱动之家　2021-04-26 08:30:49

这次也是新任CEO帕特·基辛格当家之后第一次财报发布会，他上任之后宣布了Intel这些年来最重大的一次改变，3月份Intel宣布了全新的IDM 2.0战略，投入200亿美元建设7nm晶圆厂，并进军晶圆代工业务，誓要重塑Intel的半导体制造王者地位。

在这次财报会上，基辛格再次揭示了英特尔基于IDM 2.0这项制胜法宝的未来增长机遇和创新方向。

在与分析师的沟通中，基辛格提到今年晚些时候，10nm工艺的产能就会超过14nm工艺。

Intel的14nm工艺在2015年量产，到现在已经支撑了6年多，是非常优秀的工艺，但对Intel来说，也是时候推进新工艺了，10nm工艺产能取代14nm是一个好的开始。

重中之重的还是下一代的7nm工艺，基辛格表示该公司的7nm工艺已经回到正轨，这一次也会全面使用EUV光刻技术。

基辛格表示，第一个7nm处理器Meteor Lake将在2023年问世，而且2024年、2025年的产品路线图也在路上了。

基辛格一再强调，Intel的创新机器已经启动了。

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