将于明年正式发货三星台积电争相抢购 ASML官宣新款光刻机

来源：创投时报　2021-03-22 08:32:30

光刻机是芯片制造的关键设备，光刻机精度与芯片上限直接相关。生产10nm及以下制程节点的芯片，EUV光刻机必不可缺。

当前，台积电、三星已经实现5nm芯片量产，二者的3nm乃至2nm工艺，也都有新进展。这对光刻机提出了更高的要求。

ASML作为全球唯一能生产EUV光刻机的厂商，自然肩负起了这一重任。作为ASML合作者的IMEC，其首席执行官透露了ASML光刻机的新进展。

据悉，ASML基本完成1nm光刻机设计。同时，IMEC对3nm、2nm、1.5nm甚至是1nm以下的逻辑器件小型化设计图进行了展示。

而在日前，ASML产品营销总监Mike Lercel向业界透露了EUV光刻机更新的进展。

据了解，当下ASML正在为第三代光刻机而努力。按照规划，三代光刻机有NEXT、EXE：5000以及EXE：5200。

目前，EUV光刻机的数值孔径为0.33。而从EXE:5000开始，数值孔径将达到0.55。

相较于0.33NA，0.55NA的对比度、生产效率等，均将提升;而图形曝光成本等，则将有效降低。

更值得注意的是，EXE：5000有望用于2nm，甚至是1nm工艺。

据悉，EXE:5000的曝光系统设计已经基本完成，不过要在2022年时才能正式发货。

而且，光刻机到货后无法立即启用，还需进行配置与调试。再加上人员培训的时间，因而EXE:5000真正投入使用，恐怕要等到2025年到2026年左右，时间还是很漫长。

EUV光刻机的价格不菲，一台便要上亿美元。而EXE:5000的价格更是昂贵。

有传言称，一台1nm制程EUV光刻机的价格高达4.5亿美元，约合30亿元。这一高价属实令人震惊，是当前EUV光刻机款式的2-3倍。

但即便如此，三星、台积电依然会为新光刻机争得不可开交。

为了赢得更多的光刻设备，三星电子掌门人亲自拜访ASML总部。不久后，ASML高层也前往三星电子，与三星讨论EUV光刻机设备与供应的问题。

三星希望能赶在台积电之前，获得设备。三星一直希望能超越台积电，其中EUV光刻机数量，是三星能否实现超越的重要因素。

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